VibroMet2振動拋光機可通過幾乎水平方向的振動,搭配MasterMet2二氧化硅拋光液使用,可去除樣品表面機械化制樣后殘留的細微變形層,從而得到高質(zhì)量的拋光表面,而不必使用電解拋光制備所必需的危...
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產(chǎn)品分類電鏡樣品制備
薄膜、塊體樣品制備
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樣品處理系統(tǒng)
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測試設(shè)備
實驗室通用輔助設(shè)備
反應(yīng)設(shè)備
17710506869
查看全部大尺寸臺式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD 安瑞克(ANRIC)技術(shù)公司開發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術(shù),以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級的厚度控制而著稱。其基本原理基于自限性表面反...
查看詳情等離子體增強原子層沉積PEALDAT650P(等離子體增強)/ AT650T(熱型)AT650T可在用戶現(xiàn)場升級為AT650P
查看詳情小型臺式 ALD(原子層沉積)工具專為簡單的操作和安裝而設(shè)計,而不會犧牲其性能,用于成本效益型研究與開發(fā)。
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查看詳情該款A(yù)LD原子層沉積設(shè)備特別適用于科研用戶的小型臺式設(shè)備。它經(jīng)濟實用、操作簡單、質(zhì)量穩(wěn)定可靠、售后耗材費用極低、維修便捷、容易操作。ALD專家教授實驗室被廣泛使用。
查看詳情設(shè)備特點:$n$n脈沖電閃基反應(yīng)器是集閃蒸焦耳熱系統(tǒng)和快速焦耳熱系統(tǒng)為一體的反應(yīng)系統(tǒng)包括兩個電源系統(tǒng)(大功率電容系統(tǒng)和恒壓電源系統(tǒng))和電壓、電流、溫度實時測試系統(tǒng)。
查看詳情市面上最小的ALD,可放進手套箱,來自美國哈佛的原子層沉積系統(tǒng)$n兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥,具有超快 MFC,用于集成惰性氣體吹掃。
查看詳情kashiyama NeoDry-15G 真空泵產(chǎn)品特點:$n·適合研究室等領(lǐng)域$n·無負荷運行噪音小于45dB/36G:50dB(A)$n·選配Gas Ballast,...
查看詳情IM4000Ⅱ標準離子研磨儀使用低能量Ar離子束,加工無應(yīng)力損傷的樣品截面,為SEM觀察樣品的內(nèi)部多層結(jié)構(gòu)、結(jié)晶狀態(tài)、異物解析、層厚測量等提供有效的樣品前處理方法
查看詳情質(zhì)量保障 價格實惠 服務(wù)完善
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